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■a978-7-111-74202-9■dCNY89.00 |
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■a半导体干法刻蚀技术■f(日)野尻一男著■g王文武[等]译■9ban dao ti gan fa ke shi ji +...... |
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■a北京■c机械工业出版社■d2024.1 |
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■a10, 161页■c图■d24cm |
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■a集成电路科学与工程丛书■Aji cheng dian lu ke xue yu gong cheng cong sh+...... |
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■aCMPBOOKS |
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■a译者还有：许恒宇、王盛凯、李俊杰、王彩萍、徐杨等7人 |
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■aGijutsu-Hyoron Co., Ltd.授权出版 据原书第2版译出 |
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■a本书不仅介绍了半导体器件中所涉及材料的刻蚀工艺，而且对每种材料的关键刻蚀参数、对应的等离子体源和刻蚀气体化学物质进行+...... |
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■12001 ■a集成电路科学与工程丛书 |
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■a半导体技术■x干法刻蚀■Aban dao ti ji shu |
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■aTN305.7■v5 |
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■a野尻一男■c(日)■4著■9ye kao yi nan |
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■a王文武■4译■9wang wen wu |
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■aCN■b南昌职业大学图书馆■c20240617 |
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■a南昌职业大学图书馆■dTN305.7/4 |
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