文献类型:专著 浏览次数:11
  • 题名:等离子体蚀刻及其在大规模集成电路制造中的应用.2版
  • 责任者:张海洋等编著
  • 出版社清华大学出版社
  • 出版年:2023.01
  • ISBN:978-7-302-61439-5
  • 定价:149.00
  • 载体形态项:423页 26cm
  • 个人责任者:张海洋编著
  • 学科主题:大规模集成电路
  • 中图法分类号:TN405.98
  • 提要文摘附注:本书以低温等离子体蚀刻技术发展史开篇,随后是逻辑和存储器产品中等离子体蚀刻工艺的解读。此外,还详述了逻辑产品可靠性及良率与蚀刻工艺的内在联系,聚焦了特殊气体及特殊材料在等离子体蚀刻方面的潜在应用。最后是先进过程控制技术在等离子体蚀刻应用方面的重要性及展望,以及虚拟制造在集成电路发展中的应用。
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